中国驻美国大使馆（新馆）位于美国华盛顿西北区国际中心（International Place），由华裔建筑大师贝聿铭（I.M. Pei）及其子贝建中、贝礼中设计。新馆占地面积约为 10,760 至 10,796 平方米，总建筑面积接近 40,000 平方米，是一座标志性的现代建筑。 地址： 华盛顿哥伦比亚特区西北区国际广场3505号（3505 International Place, NW, Washington, DC 20008）。 设计人： 贝聿铭（I.M. Pei）担任总体设计师，其子贝建中（Chien Chung Pei）和贝礼中（Li Chung Pei）亦参与设计。 占地与面积： 占地面积约为10,760至10,796平方米，建筑总面积约39,900平方米（包括地上与地下）。 建筑风格： 新馆采用了现代建筑风格，完美结合了中国传统文化元素（如方庭、石假山）与现代结构技术，既展现大国形象，又具备极高的行政、办公与外交功能。 启用时间： 2008年7月29日正式开馆。
