阿斯麦CEO：中国光刻机技术落后10-15年，如果没有我们的EUV极紫外刻帮助，中国几乎不能造出来3-5nm工艺，同时表示断供EUV，就是为了防止中国获得先进技术。 阿斯麦现在是全球唯一能生产EUV光刻机的企业，这种设备是制造3纳米及以下先进工艺芯片的关键，单台售价最高能达到4亿美元，就算是初代EUV，价格也不便宜。 富凯在接受采访时透露，目前阿斯麦卖给中国的设备，比他们最新的高数值孔径光刻技术落后了整整八代，差不多就是2013、2014年卖给西方客户的水平，这也印证了他说的10到15年技术差距。 可能有人没注意到，阿斯麦虽然嘴上说着要断供EUV、遏制中国技术发展，可中国一直是它的重要市场。 2025年的时候，中国还是阿斯麦最大的单一市场，占了它全年销售额的33%，而2024年这个比例更是高达41%。 只是在美国的不断施压下，阿斯麦不得不收紧对华出口，预计2026年中国在它销售额中的占比会降到20%。 其实阿斯麦的崛起也离不开外部帮助，它最早只是飞利浦旗下的一家小公司，后来靠着台积电和英特尔的支持，才一步步超越日本的尼康、佳能，垄断了EUV市场。 台积电在技术和资金上帮了它大忙，英特尔则牵头组建了技术组织，让阿斯麦得以接触到最前沿的研发成果，而这也让美国间接掌握了阿斯麦的出口话语权，这也是它对华断供的重要原因之一。 富凯在采访中还隐晦表达过一种担忧，他说中国绝不会接受被技术卡脖子，要是西方把中国逼得太紧，反而会倒逼中国全力自主研发，到时候西方可能会彻底失去中国这个庞大的市场，甚至未来中国还有可能反过来向他们出口相关产品。这种担忧并不是空穴来风，因为中国已经在光刻机领域悄悄发力，只是很多进展并没有被大肆报道。 上海微电子作为国内光刻机领域的龙头，已经中标过1.1亿元的光刻机采购项目，还实现了90纳米ArF光刻机的量产，虽然和阿斯麦的EUV还有差距，但已经是重要的突破。 除此之外，哈尔滨工业大学成功研制出13.5nm波长的EUV光源，中科院上海光机所也实现了全固态深紫外光源的突破，这些进展都在一点点缩小和国际先进水平的差距。 阿斯麦虽然一直在收紧对华EUV出口，但它的深紫外光刻机DUV仍然可以卖给中国，只是2025年DUV在华销售额同比下降了6%，一方面是因为疫情后的集中出货告一段落，另一方面也和中国本土企业的崛起有关。 有意思的是，阿斯麦一边裁员1700人优化结构、提升创新能力，一边又上调2026年的整体销售额预期，底气就来自AI热潮带动的西方芯片厂商扩产需求。 富凯之所以敢断言中国造不出3-5nm工艺芯片，核心就是因为EUV的技术壁垒极高，它不仅涉及光刻技术本身，还需要和芯片厂商的整个生产流程深度融合，形成完整的生态系统，而这个生态系统，阿斯麦已经积累了很多年。 但他可能忽略了，中国在被封锁的领域，往往能爆发出更强的潜力，就像之前在其他科技领域一样，一步步突破封锁实现自主。 目前来看，阿斯麦的断供确实给中国先进芯片制造带来了不小的阻碍，但也让中国更加坚定了自主研发的决心。国内不仅有企业在全力攻关光刻机整机，上游的光刻胶、光学部件等配套产业也在加速升级，形成了多点突破的格局。 说到底，阿斯麦的表态，本质上是既想维持自身的技术垄断，又不想彻底失去中国市场的矛盾体现。而中国的光刻机之路，虽然充满挑战，但每一步都走得很坚定。 那么大家觉得，中国能在多久内突破EUV技术封锁？欢迎在评论区留言讨论。
