中国光刻胶领域取得新突破,这消息太提气了!光刻技术可是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的关键。近日,北大彭海琳教授团队有大动作,他们用冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构等情况。 这一成果意义非凡,团队还开发出能显著减少光刻缺陷的产业化方案,相关论文都发在《自然·通讯》上了。而且他们把冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域,合成出分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”,克服传统技术三大痛点。中国光刻胶未来可期!



中国光刻胶领域取得新突破,这消息太提气了!光刻技术可是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的关键。近日,北大彭海琳教授团队有大动作,他们用冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构等情况。 这一成果意义非凡,团队还开发出能显著减少光刻缺陷的产业化方案,相关论文都发在《自然·通讯》上了。而且他们把冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域,合成出分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”,克服传统技术三大痛点。中国光刻胶未来可期!



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