面对美国愈发严苛的半导体封锁，荷兰光刻机巨头ASML首席执行官富凯终于坐不住了，发出振聋发聩的警告：切断光刻机供应的后果，只会是逼出一个掌握核心技术的强劲对手。 当地时间5月20日，富凯在比利时安特卫普参加科技活动时接受了路透社采访，他用一个意味深长的比喻道出了当下的困境："如果我把你放到沙漠里，告诉你以后再也没有食物来源了——你需要多久才能自己开垦出一块菜园？这是存亡问题。" 这番话不仅是对中国半导体产业处境的精准描述，更是ASML内心焦虑的真实流露。 这些年，美国不断推动盟友收紧对华半导体出口，ASML始终站在这场科技博弈的风暴中心。从极紫外光刻机（EUV）被全面禁止对华销售，到如今连部分基于2015年技术的深紫外光刻机（DUV）也面临新的限制压力。 美国国会4月提出的《硬件技术控制多边协同法案》，更是试图强制所有盟友遵守美国的出口管制措施，对ASML所有浸润式DUV设备实施限制。 对此，荷兰政府已正式向美国提出了抗议，富凯本人也多次公开表达反对意见。 数据不会说谎，美国的封锁已经让ASML付出了实实在在的代价。ASML今年1月曾预计，其今年的年度销售额将有20%来自中国市场，这一比例相较于2025年的33%已经出现了明显下滑。 根据中国海关部门的数据测算，今年第一季度，中国从荷兰进口的光刻设备同比下降了24.3%。与此同时，中国的自主研发步伐却在不断加快。 上海微电子的SSX600系列90nm光刻机出货量已经占据国内市场份额的80%以上，2024年9月，工信部更是将国产氟化氪(110nm)和氟化氩(65nm)光刻机列入了首台套重大技术装备推广应用指导目录。 2025年9月，中芯国际开始测试由国内企业制造的28nm浸没式DUV光刻机，这标志着中国在高端光刻机领域取得了关键突破。 更让ASML感到不安的是，中国不仅实现了从"0"到"1"的突破，还在持续缩短与国际先进水平的技术差距。 在没有EUV光刻机的情况下，中国企业通过DUV多重曝光技术成功实现了7nm芯片的量产，并且已经实现了大规模商业应用。国产EUV光刻机也已经进入原理机搭建阶段，核心零部件如双工件台、准分子激光器等都已经实现了自主突破。 富凯心里非常清楚，一旦中国在光刻机技术上追平ASML，荷兰将毫无优势可言。 中国拥有全球最完整的半导体产业链和最大的消费市场，一旦实现技术自主，凭借强大的产能和成本优势，很快就能在全球市场占据主导地位。到那时，ASML不仅会失去中国这个全球最大的单一市场，还将在全球范围内面临来自中国的激烈竞争。 美国的霸道行径正在产生适得其反的效果。半导体是高度全球化的产业，任何试图通过政治手段割裂产业链的行为，最终都会损害所有参与者的利益。 美国想把中国逼入绝境，结果反而激发了中国自主创新的决心和能力。富凯现在想要跟中国谈谈，本质上是为了保住荷兰未来的饭碗。 历史已经无数次证明，封锁和打压从来都阻挡不了中国前进的步伐，它只会让我们变得更加强大。
