二氯二氢硅（Dichlorosilane，化学式SiH₂Cl₂）是一种重要的特种气体，在半导体和光伏产业中具有关键用途。主要用途1. 半导体制造 · 化学气相沉积（CVD）：作为硅源，用于沉积多晶硅、氮化硅、氧化硅等薄膜，是集成电路制造的核心材料之一。 · 外延生长：在硅片表面生长单晶硅层，提升芯片性能。 · 先进制程：在3nm以下芯片制造中，用于硅锗外延等精密工艺。2. 光伏产业 · 薄膜太阳能电池：用于沉积非晶硅或微晶硅薄膜，提升光吸收效率。 · 硅基负极材料：新能源汽车锂电池的硅碳负极制备中，作为硅前驱体，可提升电池能量密度（特斯拉4680电池已应用）。3. 光纤通信 · 光纤预制棒：制造高纯度石英玻璃层，降低光信号传输损耗。4. 新材料领域 · 碳化硅（SiC）外延：作为硅源，用于第三代半导体碳化硅的外延生长。 · 氮化硅陶瓷：高温结构材料的制备。
二氯二氢硅（Dichlorosilane，化学式SiH₂Cl₂）是一种重要的特种
新侠客品商业
2026-01-08 02:38:18
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