“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 这话真不是夸张，这玩意儿根本不是 “一国制造”，是 “全球拼盘” 里的顶级杰作，缺了任何一块都玩不转。 先看看这 “超级刻刀” 有多金贵多复杂。现在能造高端 EUV 光刻机的只有荷兰 ASML，可别以为是荷兰一家的功劳，这机器里藏着 45 万套整合好的零部件，要是拆到最细的单元，数量能破百万，供应商得找遍全球近 800 家企业才行。 就说最核心的光学系统，得靠德国蔡司的反射镜，那镜子是 40 到 50 层钼硅材料叠出来的，每层薄到几纳米，还得用离子束抛光到原子级精度，全球就蔡司能做到这手艺。 光线从光源出来，经过 11 面这样的镜子反射，最后能落到硅片上的光只剩 2%，差一丁点儿精度都得全白费。 再看光源，用的是美国 Cymer 公司的技术，靠二氧化碳激光打锡滴产生等离子体，温度能飙到太阳表面的 40 倍，还得用氢气实时清洗防污染，这一套操作的精妙程度，比绣娘穿针引线难上万倍。 连 ASML 自己都只敢说能造 15% 的零部件，剩下 85% 全得靠全球伙伴凑齐，你说哪个国家能凭一己之力搞定？美国当年可是光刻机的发明国，上世纪 70 年代珀金埃尔默造出第一台投影式光刻机，GCA 公司还曾拿下 60% 以上的市场份额，可后来呢？ 就因为太傲气，守着本土供应商不肯合作，镜头供应商特罗佩尔跟不上技术迭代，客户意见也懒得听，硬是被肯整合资源的 ASML 和日本企业挤垮了。 到 2001 年，美国最后一点光刻技术火种还被 ASML 收购了，现在想造高端光刻机，照样得排队买 ASML 的设备，自己连生产线都没有。 你看美国能造芯片巨头英特尔，能供光源，可缺了蔡司的镜头、荷兰的集成技术，照样攒不出一台 EUV，这就像有了面粉却没有酵母和烤箱，根本烤不出面包。 再说说中国，咱们的上海微电子算是扛旗的，2025 年才刚交付 28 纳米的 DUV 光刻机，这还是浸液式的，而 ASML 的 EUV 早就能刻 3 纳米、5 纳米的芯片了，中间差了不止一代人的技术距离。 更关键的是核心部件的 “卡脖子”，EUV 里的光源、镜头这些心脏部位，中国供应商连边都摸不着，ASML 的供应链里，中国企业占比不到 10%，还都是些基础结构件之类的边角料，换别家的也不影响机器转。 就说光刻胶这种配套材料，2024 年国内半导体用光刻胶的国产化率才 8%，高端的几乎全被日本信越化学这些企业垄断，没有合格的光刻胶，就算造出光刻机也没法用。 之前还有企业想拆 ASML 的旧 DUV 研究，结果拆完装不回去，还得请 ASML 的人来修，因为里面的光学组件怕粒子撞击，干涉仪参考点一丢，再装回去精度全没了，这可不是拼乐高那么简单。 而且光刻机从来不是 “拼零件”，是 “调系统”。ASML 造一台 EUV，光安装调试就得 12 到 18 个月，180 吨的大家伙要在超级无尘室里精准对接，振动控制得比蝴蝶扇翅膀还小，不然刻出来的电路就会歪歪扭扭。 这需要几十年的经验积累，ASML 从 2001 年就联合英特尔、三星这些巨头砸钱研发，前后投了几百亿美元才搞定 EUV 量产，中国连完整的供应链都没搭起来，更别说这种 “细活” 了。 还有人才，光学、精密机械、激光控制这些跨学科的高端人才，全球都稀缺，中国短期内根本补不上这个缺口，没人来调系统，就算凑齐零件也只是一堆废铁。 所以说，光刻机这东西是全球工业文明攒了几十年的 “大玩具”，德国的光学、美国的光源、日本的材料、荷兰的集成，少了哪一环都不行。 美国当年丢了先机，现在想捡都捡不起来；中国连基础的零件和人才都缺，更别说独立造了。 别觉得 “国家强大就能造”，这事儿真不是靠喊口号能解决的，它本质上是全球产业链的 “集体作品”，单一国家想独吞这块蛋糕，根本不现实。
