荷兰光刻机巨头ASML表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取EUV光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过20%。
美国越是卡脖子，中国越不肯松劲，ASML说EUV光刻机难到中国手里，可咱们的研发投入一年比一年多，从整机到零件再到材料，各个环节都在偷偷拔尖。
就说上海微电子，这家企业专门跟光刻机打交道，走的是跟ASML类似的传统路线，一步一步往上啃。
之前他们拿出了能造28纳米芯片的机器，这机器不是摆着看的，已经进了中芯国际、华虹这些大厂的生产线，工程师们在无尘车间里反复调试，就为了让机器刻得更准、跑得更快。
到后来他们又搞定了双工件台技术，简单说就是以前一次只能处理一片晶圆，现在能同时弄两片，效率一下提上去不少，这可是打破了ASML在高端部件上的垄断。
中芯国际之前花大价钱从ASML买过不少深紫外线光刻机，就是那种比EUV差一点的设备，他们的工程师没闲着，靠着这些机器反复试验，硬是用更复杂的方法做出了7纳米的芯片，虽然不如EUV方便，但至少能造出来用了。
光啃传统路线还不够，中国还铺开了好几条路一起走。咱们有家公司，搞出了一种叫纳米压印的光刻机，像盖章一样把精细的纹路压在芯片上，这种机器已经送到工厂里正式用了，能做出10纳米以下的电路，虽然速度比不上EUV，但在存储芯片、LED这些领域特别好用，成本还低。
光刻机最难的就是核心的光源，没有合格的光源，再精密的机器也没用，这就像相机没有好镜头拍不出清楚的照片。
哈工大的科研团队在这上面下了大功夫，他们没走ASML的老路，而是用放电等离子体的方法，做出了13.5纳米的极紫外光源，这个波长跟ASML的EUV光刻机核心指标一样，只是实现方式不同，效率还更高。
现在他们和企业共建的生产线已经开始试运行，能稳定输出光源了，虽然离商用还有距离，但已经能支撑原型机做关键测试，这可是让ASML都坐不住的突破。
做光刻机从来不是一家企业的事，得整条产业链都跟上。中科院半导体所一直在帮着打通产业链，他们跟江苏的企业合作，搞出了碳化硅外延设备。
这是做高端芯片的关键装备，以前全靠进口，现在咱们自己做的6英寸设备性能已经接近国际一流水平，还在研发更大尺寸的。
他们还和地方共建了测试平台，不管是高校还是企业，研发新的半导体材料、器件，都能去那里做检测，不用再依赖国外的平台。
这种科研机构和企业绑在一起干的模式，已经孵出了不少能赚钱的产品，比如华兴激光的激光芯片，早就批量卖给中兴、海信这些大厂了，赚的钱又能反哺研发。
现在的情况就是这样，ASML说拿不到EUV是事实，但中国的研发投入没白花，不是瞎砸钱。上海微电子在传统路线上稳扎稳打，中芯国际把现有设备用到了极致，哈工大啃下了光源这块硬骨头。
还有纳米压印、电子束这些旁门左道也走通了不少，连产业链上的各种小零件、小设备都在慢慢国产化。
虽然现在还没攒出完整的EUV光刻机，但该有的技术模块差不多都有了突破。美国的封锁反而把大家逼得更团结，科研机构、工厂、高校拧成一股绳，以前可能还想着买现成的，现在只能自己干，反而走出了多条路。
毕竟研发高端技术本来就需要时间，每年超过20%的投入增速，堆的就是时间和经验，等这些积累够了，突破也就是水到渠成的事。
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