国产光刻新突破！“真空气压式、光芯片专用、量产级”纳米压印机交付 6月5日，国产半导体传来好消息：璞璘科技向深圳力策科技交付首台量产级光芯片专用纳米压印光刻机（PL-AS） 。 这标志着我国在光芯片制造领域，成功绕开传统DUV光刻路线，走出一条低成本、可量产的自主道路 。 一、纳米压印到底是什么？ 简单说，传统光刻机（如DUV/EUV）像“高精度复印机”，靠光线投影刻电路； 纳米压印更像“纳米级盖章”：先做好带纳米电路的“印章”（模板），直接压在晶圆上转印图案 。 不用复杂光学镜头，成本仅为DUV的1/10 能耗大幅降低，设备结构更简单 精度可达10nm以下，满足光芯片量产需求 二、这台国产设备有多强？ ①全球首款光芯片专用量产机 8英寸晶圆规模化量产，适配激光雷达、硅光、光通信芯片 线宽＜10nm，压印压力均匀性误差＜0.5% ②真空气压式，性能领先 面接触均匀施压，残余层厚度偏差≤2nm 对比辊压：无晶圆形变；对比步进：效率翻倍 ③国产材料+工艺闭环 搭配自研双层压印胶，良率稳定 已在光通讯、硅光芯片完成量产验证 三、对我们有什么用？ 激光雷达降价：助力车载光学相控阵芯片量产，自动驾驶成本下降 算力升级：硅光芯片提速，AI服务器、数据中心更高效 弯道超车：欧美仍在样机阶段，我国率先万台级交付，实现从跟跑到领跑 四、不是替代EUV，而是互补 纳米压印不适合CPU/GPU等逻辑芯片，但在光芯片、存储、微纳光学领域优势明显。 它不是颠覆，而是补上国产光刻短板，让我们在特色芯片赛道不再被“卡脖子”。 不拼EUV，不堆设备，靠纳米压印硬技术突围。 这台光刻机，既是光芯片的“量产钥匙”，也是中国半导体差异化突围的重要一步。 未来，更低成本的激光雷达、更快的光通信、更便宜的AI算力，都从这里开始。
