中国“芯”能否超越英伟达?DeepSeekV4爆了,全面拥抱国产算力,中国“芯”

馆长笑说商业 2026-04-29 15:36:02

中国“芯”能否超越英伟达?

DeepSeekV4爆了,全面拥抱国产算力,中国“芯”崛起。

1、 国产芯片与英伟达是否还有差距?

先上结论:差距在快速缩小,大集群方案让中国芯迎来了全新变量。

华为昇腾950是今年的国产主力,主打推理,单卡算力对标英伟达H100,FP4性能局部反超H100,虽训练端与H200仍有差距,但远优于特供版H20。但与英伟达下一代Rubin架构对比,单卡性能仍然落后。

未来,真正的突破还在于用系统化思维,重新定义芯片战争。

比如华为CloudMatrix 384集群,与英伟达GB200 NVL72集群对比,实现了1.7倍的算力表现。

这说明现在竞争进入了超大规模芯片集群比拼阶段。未来要通过数万颗国产芯片高效协同,实现算力质变。

2、 能不能超越?

超越正在进行时,中国芯片正迎来关键的赶超窗口。未来主要从制程、光刻机、核心原料三大环节突破。

制程。我们仍在成熟制程(28nm及以上)向先进制程(14nm、7nm及以下)的爬坡中,比如等效7nm工艺需依赖DUV多重曝光,良率与成本均需要提升。

光刻机。全球90%以上的光刻机市场被荷兰和日本占据。阿斯麦市占80%,佳能、尼康占15%。用于7nm以下制程的高端EUV光刻机只有阿斯麦能生产,国产28nm DUV光刻机已经实现突破,等待EUV研发破局。

原材料。高纯度硅片、光刻胶、特种气体等基础原材料仍依赖进口。比如日本信越化学、JSR垄断的ArF光刻胶等。未来需要更多工业积累和研究突破。

中国芯片产业正快速崛起。

华为、寒武纪等本土芯片品牌快速发展,IDC数据显示AI加速卡市场国内厂家渗透率突破40%;中兴通讯的5nm制程ASIC完成流片、中芯国际步入先进制程良率和产能突破期。

长期看,国产芯片必然从“能用”跨越到“好用又便宜”,凭借产业链、规模化和成本优势,复制新能源汽车和光伏的奇迹。中国芯重构全球格局,只是时间问题。

3、 AI不是风口,是海啸

我从美国考察回来提醒:AI不是风口,是海啸。

DeepSeekV4与八大国产GPU适配,更低算力成本、更顶级性能。 算力国产化加速,这是国产GPU全面崛起最好契机。 

前期预测:2026年超级应用大爆发,中国力量崛起。AI的背后是算力,算力的背后是电力。这是我们这代人最重要的机遇,人生发财靠周期。

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