光刻机+光刻胶+CPO三大硬核赛道 核心标的全梳理半导体国产替代提速叠加AI算力需求爆发，光刻机、光刻胶、CPO三大赛道稳居市场核心高景气主线，承载技术突破与产业升级双重核心逻辑，现将三大赛道核心标的及核心价值深度梳理如下：1. 茂莱光学（光刻机）：卡位光刻机核心光学环节，主营光刻机光学系统配套匀光、中继照明模块专用光学器件、投影物镜，同时供应工件台位移测量系统棱镜组件，是光刻机核心零部件关键供应商。2. 新莱应材（光刻机）：聚焦半导体配套核心领域，旗下半导体真空系统、气体系统适配性极强，可直接应用于光刻机设备，全面服务半导体设备供应商及终端厂商，供应链覆盖能力突出。3. 凯美特气（光刻机）：突破光刻气核心认证壁垒，子公司电子特种气体板块光刻气产品，已通过ASML子公司Cymer合格供应商认证，成功切入高端光刻机核心耗材供应链。4. 苏大维格（光刻机）：具备光刻设备自主研发硬实力，核心布局紫外光刻直写设备，掌握设备设计、整机组装、配套软件开发全流程核心能力，自主化程度高，核心竞争力显著。5. 波长光电（光刻机）：突破光刻机配套光学镜头技术瓶颈，具备大孔径光学镜头供应能力，已完成多套接近式掩膜芯片光刻工序系统交付，商业化落地进度持续提速。6. 上海新阳（光刻胶）：光刻胶产品矩阵完善，据公司互动平台披露，自研集成电路用I线、KrF、ArF干法、ArF浸没式全品类光刻胶，均实现常态化稳定供货，适配多工艺场景需求。7. 晶瑞电材（光刻胶）：光刻胶量产进程稳步突破，多款KrF光刻胶已量产出货，ArF光刻胶开启小批量供货，多款新品送样下游核心客户验证，量产梯队逐步成型。8. 南大光电（光刻胶）：坚持光刻胶技术完全自主研发，技术壁垒深厚，2024年ArF光刻胶收入突破千万元，标志自主化光刻胶从技术研发正式迈入商业化变现阶段。9. 飞凯材料（光刻胶）：深耕光刻胶及配套材料赛道，主营I线光刻胶、KrF光刻配套Barc材料，均实现稳定量产且通过下游客户严苛验证，供货能力与产品稳定性获行业认可。10. 彤程新材（光刻胶）：国产光刻胶头部企业，产品覆盖全面，可满足国内14nm以上多数半导体生产工艺需求，适配主流光刻工序材料需求，是国产光刻胶替代核心主力。11. 联特科技（CPO）：CPO赛道全链路布局，掌握光芯片-光器件-光模块一体化设计与制造全流程核心技术，产业链垂直整合优势显著。12. 新易盛（CPO）：高速率光模块行业领先，已推出单波200G方案1.6T光模块，高速率产品组合全覆盖硅光解决方案光模块，精准匹配CPO技术应用需求。13. 中际旭创（CPO）：CPO量产与产能双领跑，1.6T光模块已规模化量产，苏州全球首条CPO专用产线正式投产，产能释放与技术领先性稳居行业前沿。14. 光迅科技（CPO）：1.6T硅光模块具备批量交付能力，据公司互动平台披露，自研1.6T硅光模块已实现量产交付，可快速承接下游算力需求订单增量。15. 天孚通信（CPO）：前瞻布局CPO配套领域，可提供垂直整合一站式配套解决方案，核心配套技术持续迭代升级，紧跟CPO产业规模化发展节奏。LightCounting最新报告显示，2030年全球CPO市场规模有望突破百亿美元，行业长期成长空间广阔。上述15家企业均在三大高景气赛道上下游核心环节，坐拥核心产品布局或技术壁垒，持续获市场高度关注。注：文中内容仅为个人复盘记录，不构成任何投资建议，股市有风险，入市需谨慎。
