日本为什么总是把一手好牌，打得稀烂？光刻技术从巅峰跌落谷底，只用了短短几年。

日本为什么总是把一手好牌，打得稀烂？光刻技术从巅峰跌落谷底，只用了短短几年。 20世纪80年代末，日本佳能尼康在光刻技术上遇到瓶颈，此时，他们的技术早已引领全球，但在接下来的选择里，日本居然选了157nm干式光刻，并且压了全部资源，孤注一掷的类型。 157nm属于真空紫外波段，没办法用传统熔融石英吸收，透镜材料只能用氟化钙（CaF₂），但这东西对加工要求极高，日本很难做出来，就算做出来，透镜寿命也很短，频繁更换的话，成本能占整台设备的30%。 除了透镜材料难造，光刻胶和掩膜也难倒了日本，就算全部造出来，综合成本是93nm干式的2~3倍。 日本认为，之前193nm浸没式道路已经到了尽头，没有接下去研发的潜力，值得注意的是，当时日本在193nm的技术可是遥遥领先的，结果转头一股脑投入到157nm干式上。 答案很直接，日本不仅没成本，还失去光刻领域最好的10年，如果继续研究193nm浸没式，他们大概率能继续保持领先，因为后来者想要弯道超车确实难度特别大。 就在日本自断前路，去研究157nm干式失败的同时，台积电却攻破了193nm浸没式关键技术，并迅速和ASML合作，直接把日本远远甩在身后，至今都没有“翻身”的可能。