日经亚洲：中国可能成为荷兰和日本后第三个独立制造光刻机的国家根据《日经亚洲》等媒体的观察，中国很有可能成为继荷兰和日本之后，全球第三个能自己造全套光刻机的国家，这个判断不是空穴来风，而是因为最近中国在光刻机关键技术上取得了不少实际进展。比如上海微电子在浸没式光刻机领域不断攻关，还有一些初创公司在专用设备上也有突破，中国正在打造一条从成熟芯片到特色工艺的技术防线，希望在全球半导体产业链的变化中找到自己的新机会。以前大家关注中国光刻机，总是拿它和荷兰ASML的高端极紫外设备去比较，觉得中国只有造出这种机器才算厉害，但这种单一的对比其实忽略了产业发展的真实情况。实际上中国光刻机的发展是“两条腿走路”，一方面在高端硅基芯片领域稳步追赶，另一方面在化合物半导体等新领域，通过差异化来抢占市场。2025年12月上海芯上微装科技成功交付了AST6200型350纳米步进光刻机，这台设备虽然制程节点不是最先进，但它的技术参数正好满足了现在第三代半导体市场的需求，专门解决了行业里的实际问题，这也说明中国光刻机企业正在用更灵活、更实用的方式参与全球竞争。行业数据显示这台光刻机的套刻精度，正面能做到80纳米，背面是500纳米，而且能兼容碳化硅、氮化镓等多种新型半导体材料，这对于5G基站、新能源汽车的电控系统、还有Micro LED显示屏等芯片制造来说完全够用，更关键的是这台设备国产化率高达83%，几乎所有核心零部件都是中国制造。成熟制程的芯片占了全球需求的70%，中国现在先把这块市场稳住，积累经验再逐步去冲击高端领域，这样做避免了只盯着高端，结果两头落空的局面，转而用差异化竞争来抢占市场，很多人士认为这种做法更加现实，也能帮中国企业建立起自己的“护城河”。中国的进步也引起了国际上的反应，荷兰的企业在高端设备上还保持垄断，日本也在调整自己的出口政策。2025年中国半导体设备进口量依旧很高，但国产设备的替代速度也在加快，荷兰阿斯麦的报告显示，中国市场占了它销售额的42%，中国对进口设备还有依赖，但像SSA600这种国产设备已经能用在90纳米的生产线上。放在全球视角来看，中国正在努力影响整个供应链，荷兰ASML自己也承认，想彻底“脱钩”其实很难，全球合作依然是主流，但地缘政治的压力让分离变得更加现实。中国一方面大量囤积设备应对短期风险，另一方面加快本土技术开发，2025年的销售数据说明中国还有依赖，但自主率正在逐步提升，中国企业也通过专利保护自己的成果，吸引更多投资。中国光刻机的发展之路还充满不确定性，但已经有了实际进展，比如28纳米设备的测试，未来几年重点会放在产品的商业化和可靠性上，国际媒体也在持续关注，评估中国光刻机的影响力，这不仅仅是技术比拼，更是一场全球战略的较量。
